韦亚一，研究员，博士，南京诚芯集成电路技术研究院有限公司院长、执行董事。长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，取得了多项核心技术和丰硕成果，具有丰富的技术和管理经验，拥有超过100篇的专业文献和40余项中国、美国专利。领导了180nm—14nm等多个先进节点的光刻工艺和计算光刻研发；成立并领导计算光刻研发中心、集成电路计算光刻与设计优化实验室、EUV光刻仿真联合实验室等多个实验室；曾领导了300mm前道匀胶显影机的研发，该产品的研发得到了国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”的支持。

科技促进创新 创新引领发展

当前中国经济发展到了关键转型期，科技成为保持社会和经济活力的关键力量。集成电路领域是我国深度参与国际竞争，实现技术进步、经济转型升级的核心产业之一。打造具有自主知识产权、生态链完整的高端集成电路产业，一直是我国集成电路发展的迫切需求，也是南京市提升科技和经济竞争力的核心产业之一。

为此，在南京市委市政府的多项政策支持下，浦口高新区积极与韦亚一博士、中国科学院微电子研究所联系，联合创建南京诚芯集成电路研究院。将科研机构的科研成果、人才团队、社会影响力吸引到南京，为浦口补上集成电路高技术产业链的核心一环。

韦亚一博士集科学研究与先进管理于一身，他是集成电路先进光刻的国际专家，拥有超过15年的海外研发经验，还曾在美国格罗方德担任光刻部门经理，领导开发了当时最先进的光刻工艺，期间受SPIE邀请出版了题为“Advanced processes for 193nm immersion lithography”的英文著作。2013年，韦亚一博士回国，担任中国科学院微电子研究所研究员，组建了面向国家产业需求的计算光刻研发中心，积极投身到国家集成电路产业发展的浪潮中。先后主持或参与了我国第一台12英寸匀胶显影机的研制，中芯国际、武汉新芯、长江存储等集成电路制造企业的光刻研发，并为我国光刻胶、光刻设备的研制提供咨询和工艺技术支持。2016年，韦亚一博士受科学出版社邀请，出版了浸没式光刻技术的中文专著《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》，为集成电路相关从业管理人员、工程师和研究生提供了理论和工程经验指导。

培养人才 分秒必争

人才是产业发展的核心要素，加强人才交流是促进科技进步的关键。为此，韦亚一博士于2017年在北京组织举办了第一届“国际先进光刻技术研讨会”。这是中国先进光刻领域的年度盛会，聚集了国内外最优秀的研发经理、技术专家，并邀请到我国集成电路顶层设计的管理专家莅临指导。为积极支持南京市对国际人才、技术和投资的吸引力，韦亚一博士将第三届“国际先进光刻技术研讨会”的地点定在了六朝古都南京，并邀请多名国际知名技术专家参会指导，包括国际欧亚科学院院士和国家外专局原局长马俊如先生、IEEE终身院士日本冈琦信次先生、ASML高级副总兼睿初创始人曹宇博士、美国伯克利国家实验室主任Naulleau博士等，为南京的集成电路产业提供支持。

韦亚一博士经常对他的团队说，我国的集成电路新业态、新技术不断涌现，其发展速度前所未有，要加强与产业界合作和交流，在产业发展中不断地创造价值、实现价值。他有一个电子记事本，记录了每天需要完成的任务，甚至包括了每天要读的专业文献以及他对研究方向和创新点的理解与思考。凭借这种高效务实的工作态度，2018年11月成立的南京诚芯集成电路技术研究院，在韦亚一博士的带领下，完成了团队建设、基地入驻、方向布局等一系列工作，不到半年时间里就顺利取得南京市的新型研发机构的认证。

由韦亚一博士创建的南京诚芯集成电路技术研究院，是将科学研究与产业应用、经济效益与社会价值相结合的积极探索。浦口是长江上的一个黄金渡口，有台积电、紫光等国际领先的企业，有大量的高素质人才，有良好的科技经济发展环境。站在浦口科创大厦的二十一楼眺望长江，诚芯集成电路技术研究院的使命就如同长江的渡船和大桥，在人才与国家需求之间搭建桥梁，将集成电路设计与制造紧密联系，让科研创新和产业实践成为一体。