韋亞一，研究員，博士，南京誠芯集成電路技術研究院有限公司院長、執行董事。長期從事半導體光刻領域設備、材料和制程研發，取得了多項核心技術和豐碩成果，具有豐富的技術和管理經驗，擁有超過100篇的專業文獻和40余項中國、美國專利。領導了180nm—14nm等多個先進節點的光刻工藝和計算光刻研發﹔成立並領導計算光刻研發中心、集成電路計算光刻與設計優化實驗室、EUV光刻仿真聯合實驗室等多個實驗室﹔曾領導了300mm前道勻膠顯影機的研發，該產品的研發得到了國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”的支持。

科技促進創新 創新引領發展

當前中國經濟發展到了關鍵轉型期，科技成為保持社會和經濟活力的關鍵力量。集成電路領域是我國深度參與國際競爭，實現技術進步、經濟轉型升級的核心產業之一。打造具有自主知識產權、生態鏈完整的高端集成電路產業，一直是我國集成電路發展的迫切需求，也是南京市提升科技和經濟競爭力的核心產業之一。

為此，在南京市委市政府的多項政策支持下，浦口高新區積極與韋亞一博士、中國科學院微電子研究所聯系，聯合創建南京誠芯集成電路研究院。將科研機構的科研成果、人才團隊、社會影響力吸引到南京，為浦口補上集成電路高技術產業鏈的核心一環。

韋亞一博士集科學研究與先進管理於一身，他是集成電路先進光刻的國際專家，擁有超過15年的海外研發經驗，還曾在美國格羅方德擔任光刻部門經理，領導開發了當時最先進的光刻工藝，期間受SPIE邀請出版了題為“Advanced processes for 193nm immersion lithography”的英文著作。2013年，韋亞一博士回國，擔任中國科學院微電子研究所研究員，組建了面向國家產業需求的計算光刻研發中心，積極投身到國家集成電路產業發展的浪潮中。先后主持或參與了我國第一台12英寸勻膠顯影機的研制，中芯國際、武漢新芯、長江存儲等集成電路制造企業的光刻研發，並為我國光刻膠、光刻設備的研制提供咨詢和工藝技術支持。2016年，韋亞一博士受科學出版社邀請，出版了浸沒式光刻技術的中文專著《超大規模集成電路先進光刻理論與應用》，為集成電路相關從業管理人員、工程師和研究生提供了理論和工程經驗指導。

培養人才 分秒必爭

人才是產業發展的核心要素，加強人才交流是促進科技進步的關鍵。為此，韋亞一博士於2017年在北京組織舉辦了第一屆“國際先進光刻技術研討會”。這是中國先進光刻領域的年度盛會，聚集了國內外最優秀的研發經理、技術專家，並邀請到我國集成電路頂層設計的管理專家蒞臨指導。為積極支持南京市對國際人才、技術和投資的吸引力，韋亞一博士將第三屆“國際先進光刻技術研討會”的地點定在了六朝古都南京，並邀請多名國際知名技術專家參會指導，包括國際歐亞科學院院士和國家外專局原局長馬俊如先生、IEEE終身院士日本岡琦信次先生、ASML高級副總兼睿初創始人曹宇博士、美國伯克利國家實驗室主任Naulleau博士等，為南京的集成電路產業提供支持。

韋亞一博士經常對他的團隊說，我國的集成電路新業態、新技術不斷涌現，其發展速度前所未有，要加強與產業界合作和交流，在產業發展中不斷地創造價值、實現價值。他有一個電子記事本，記錄了每天需要完成的任務，甚至包括了每天要讀的專業文獻以及他對研究方向和創新點的理解與思考。憑借這種高效務實的工作態度，2018年11月成立的南京誠芯集成電路技術研究院，在韋亞一博士的帶領下，完成了團隊建設、基地入駐、方向布局等一系列工作，不到半年時間裡就順利取得南京市的新型研發機構的認証。

由韋亞一博士創建的南京誠芯集成電路技術研究院，是將科學研究與產業應用、經濟效益與社會價值相結合的積極探索。浦口是長江上的一個黃金渡口，有台積電、紫光等國際領先的企業，有大量的高素質人才，有良好的科技經濟發展環境。站在浦口科創大廈的二十一樓眺望長江，誠芯集成電路技術研究院的使命就如同長江的渡船和大橋，在人才與國家需求之間搭建橋梁，將集成電路設計與制造緊密聯系，讓科研創新和產業實踐成為一體。